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diff --git a/docs/hardware/EQOLION_DESIGN.md b/docs/hardware/EQOLION_DESIGN.md index 7be8a58..d7c98d2 100644 --- a/docs/hardware/EQOLION_DESIGN.md +++ b/docs/hardware/EQOLION_DESIGN.md @@ -100,3 +100,16 @@ bsign 清除,**奇通道 E[s·ĝ] = β·c + δ/β**——污染不翻号全额 存活路径=锁相分离:c∝β 而污染∝1/β,两档|β|×随机符号四点调制按档积分可解出双通道,零额外相位。 **评分表新增第三轴:偏置放大系数**(质量/硬件成本之外)。器件电池预注册预测:持久偏置下排序 重排——per-matrix(Muon/Hyperball)优雅退化, per-coordinate(Adam/sign族)满幅漂移, Dither 翻身。 + +--- +## 增益钳位测试设计(2026-08-06,用户"谱的物理要素"问题触发;下一个实验) +**物理映射**:σ_i = 阵列沿模式 i 的增益;σ_max = 正向-转置反馈环的环路增益(功率迭代物理原生); +谱归一化 = 逐模式增益饱和(NS 的 σ←1.5σ−0.5σ³ 就是三次饱和曲线);候选物理过程 = **多模增益钳位** +(激光:每个超阈模式的净圆程增益饱和钳到 1 = 把谱压平;CIM 谱系用模式竞争算顶本征向量是先例)。 +**唯一的坎 = 逐元件 vs 逐模式饱和**(均匀/非均匀增益加宽之别)。 +**测试**(离线, 小矩阵, 先想清楚模型再跑, 吸取 R1 教训): +- 动力学: U_{t+1} = G_t ⊙ (W WᵀU_t), G 为逐元件增益, 局部饱和律 g_i ← g_i·f(P0/⟨u_i²⟩)(几种 f 各测); +- 读出: 稳态下有效算子的谱形(对 W 的真谱画 σ_eff(σ)曲线); +- 判据: 压平程度达到 k=3 等效带(质量加权符号一致 + 若通过则上训练臂 4.76 带验收); +- 预注册两个可能结局: 逐元件饱和→只得整体 AGC(Hyperball 类) = 谱归一留数字侧; + 部分模式分居→部分钳平 = 模拟谱归一化器存在, 精度按 k 曲线定规格。 |
